Iónový implantátor s urýchľovacím napätím 500 kV poskytuje iónové zväzky prakticky všetkých chemických prvkov až do intenzity 2 mA (s výnimkou deutéria a syntetických rádionuklidov – v prípade požiadavky na takýto zväzok je nutné samostatné povolenie UVZ SR). K dispozícii sú dve implantačné komory. Veľkosť substrátu a podmienky implantácie/ožarovania: • Max. priemer D = 100 mm – ohrev do 500 °C alebo chladenie tekutým dusíkom na −196 °C • Max. priemer D = 40 mm – ohrievač do 1000 °C • Max. priemer D = 200 mm – vodou chladený držiak Možnosť realizácie experimentov in situ aj in operando (napr. na elektronických súčiastkach). Možnosť zabezpečenia bezprašného prostredia triedy ISO 5.